紅外線燈加熱裝置在鐵電薄膜的晶體退火上的運(yùn)用

發(fā)布日期：2021-08-26      瀏覽次數(shù)：1226

紅外線燈加熱裝置在鐵電薄膜的晶體退火上的運(yùn)用



MILA-5000系列可以進(jìn)行高速加熱/冷卻和清潔加熱，這是紅外金像爐的特點(diǎn)。它可以在自由氣氛中加熱，并且?guī)в屑蓽囟瓤刂破骱妥兞康木o湊和廉價大氣室. 紅外線燈加熱裝置.
可通過USB連接在個人電腦上進(jìn)行加熱操作, 數(shù)據(jù)易于管理。

用途

• 鐵電薄膜的晶體退火

• 離子注入后的擴(kuò)散退火、氧化膜形成退火

• Si、復(fù)合晶片燒結(jié)、合金化處理

• 玻璃基板均溫儀

• 熱循環(huán)、熱沖擊、熱疲勞試驗(yàn)

• 升溫脫附試驗(yàn)用加熱爐

• 催化效果試驗(yàn)




特征

• 選擇任何氣氛，如真空、氣體、氣流、氣氛

• 精確的溫度控制

• 桌面和緊湊的設(shè)計

• 您可以輕松設(shè)置溫度程序并從計算機(jī)輸入外部信號。

• 可以在個人電腦上顯示加熱過程中的溫度數(shù)據(jù)。

規(guī)格

模型	MILA-5000-PF （均熱型）	MILA-5000-PN （高溫型）	MILA-5000UHV （高溫/高真空型）
溫度范圍	室溫～800℃	室溫～1200℃
樣品尺寸	方形 20mm x 厚度 2mm
加熱氣氛	在空氣中、真空中、惰性氣體中		在空氣中，在高真空中，在惰性氣體中
極限真空度	6.5Pa（RP *1使用，常溫空載）		10 -4 Pa（TMP *1使用，常溫空載）

* 1 真空排氣裝置是一個選項(xiàng)
* 2 加熱溫度因被加熱物體的紅外線反射/吸收、熱容量和材料而異。