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避免半導(dǎo)體晶片厚度檢測劃傷設(shè)備-激光非接觸測厚儀

  • 發(fā)布日期:2021-06-30      瀏覽次數(shù):1402
    • 避免半導(dǎo)體晶片厚度檢測劃傷設(shè)備-激光非接觸測厚儀

      非接觸式厚度測量儀 OZUMA CL

      激光測量法

      OZUMA CL 視頻

      用于半導(dǎo)體晶片(Si硅晶片、GaAs、砷化鎵Ga)、砷(As)、玻璃、金屬等。它是。OZUMA CL非接觸式厚度測量裝置用于在背面拋光過程中或在每個(gè)制造過程中控制半導(dǎo)體晶片(Si硅晶片、GaAs、鎵(Ga)砷(As))的厚度(厚度)??捎糜诰A(厚度)控制的非接觸式測量?!?/font>

      分辨率為 0.01 μm。

      由于是激光非接觸方式 ,因此無需擔(dān)心探針等劃傷被測物體。由于是非接觸式,因此可以對同一被測物進(jìn)行厚度(厚度)、翹曲度、平行度等重復(fù)測量。由于激光傳感頭上下相對放置,因此可以準(zhǔn)確測量厚度,而不受被測物體“滑行”引起的抬升的影響。

       

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