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Atomax噴嘴:半導(dǎo)體行業(yè)高精度噴涂的解決方案

  • 發(fā)布日期:2025-05-15      瀏覽次數(shù):114
    •   在半導(dǎo)體制造中,噴涂工藝的精度和可靠性直接影響芯片的質(zhì)量與性能。無(wú)論是光刻膠的均勻涂覆、清洗液的精細(xì)霧化,還是功能性材料的精準(zhǔn)沉積,都需要噴嘴具備高的穩(wěn)定性、耐腐蝕性和抗堵塞能力。Atomax二流體噴嘴憑借其技術(shù)特性,成為半導(dǎo)體行業(yè)高精度噴涂的理想選擇,為先進(jìn)制程提供可靠保障。
       
        1. 超高精度霧化,滿(mǎn)足半導(dǎo)體微米級(jí)工藝需求
       
        Atomax噴嘴采用先進(jìn)的二流體霧化技術(shù),能夠?qū)⒁后w破碎成幾微米的超細(xì)液滴,實(shí)現(xiàn)納米級(jí)均勻分布。例如,在光刻膠噴涂中,Atomax噴嘴可替代傳統(tǒng)旋涂工藝,以極低的流量精準(zhǔn)控制膠液覆蓋,避免材料浪費(fèi),同時(shí)確保晶圓表面形成無(wú)缺陷的均勻薄膜。其霧化粒徑可精確調(diào)控,適應(yīng)不同工藝的需求,為光刻、蝕刻等關(guān)鍵制程提供穩(wěn)定支持。
       
        2. 高純度耐腐蝕材料,確保長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行
       
        半導(dǎo)體制造涉及多種強(qiáng)酸、強(qiáng)堿及有機(jī)溶劑,普通噴嘴易受腐蝕,導(dǎo)致雜質(zhì)析出,影響芯片良率。Atomax噴嘴采用PEEK樹(shù)脂、SUS316L不銹鋼等高性能材料,具有強(qiáng)的耐化學(xué)腐蝕性,可長(zhǎng)期耐受各類(lèi)清洗劑、蝕刻液及功能性涂料,避免污染風(fēng)險(xiǎn)。此外,其材料具備優(yōu)異的耐高溫性能,適用于CVD、PVD等高溫沉積工藝,確保在嚴(yán)苛環(huán)境下仍能穩(wěn)定工作。
       
        3. 抗堵塞設(shè)計(jì),保障連續(xù)生產(chǎn)
       
        傳統(tǒng)噴嘴在噴涂高粘度液體或漿料時(shí)容易堵塞,導(dǎo)致工藝中斷,增加維護(hù)成本。Atomax噴嘴采用外置混合結(jié)構(gòu)+大孔徑流路設(shè)計(jì),液體通道為直線型,無(wú)內(nèi)部滯留區(qū)域,堵塞風(fēng)險(xiǎn)極低。其噴霧孔徑比普通噴嘴大10~200倍,可輕松處理高粘度光刻膠、漿料及納米顆粒懸浮液,大幅減少停機(jī)清洗頻率,提升生產(chǎn)效率。
       
        4. 靈活可控,適配多樣化半導(dǎo)體工藝
       
        精準(zhǔn)流量調(diào)節(jié):支持超低流量霧化(可低至毫升/分鐘級(jí)別),滿(mǎn)足半導(dǎo)體制造中對(duì)微量噴涂的嚴(yán)苛要求。
       
        模塊化設(shè)計(jì):體積小巧,易于集成到現(xiàn)有設(shè)備,適用于空間受限的晶圓清洗、噴涂系統(tǒng)。
       
        定制化服務(wù):可根據(jù)工藝需求調(diào)整噴嘴孔徑、噴霧角度及流量參數(shù),適配不同制程的噴涂需求。
       
        5. 實(shí)際應(yīng)用場(chǎng)景
       
        光刻膠噴涂:替代旋涂,減少材料浪費(fèi),提升均勻性。
       
        晶圓清洗:超細(xì)霧化清洗液,實(shí)現(xiàn)高效去污,避免損傷微結(jié)構(gòu)。
       
        功能性涂層沉積:精準(zhǔn)控制薄膜厚度,提升CVD/PVD工藝質(zhì)量。
       
        結(jié)語(yǔ)
       
        Atomax二流體噴嘴以高精度霧化、強(qiáng)耐腐蝕、抗堵塞、長(zhǎng)壽命等核心優(yōu)勢(shì),成為半導(dǎo)體行業(yè)噴涂工藝的可靠伙伴。無(wú)論是提升良率、降低耗材成本,還是優(yōu)化制程穩(wěn)定性,Atomax都能提供解決方案。選擇Atomax,讓您的半導(dǎo)體制造工藝更精準(zhǔn)、更高效!
       
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