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濺射設(shè)備SC-701MkII的原理分析

  • 發(fā)布日期:2024-04-13      瀏覽次數(shù):502
    • 濺射設(shè)備SC-701MkII的原理分析

      濺射原理

      它是一種將薄膜附著到物質(zhì)上的方法,與電鍍不同,它是在真空中進(jìn)行的,不使用化學(xué)品。(在半導(dǎo)體制造中,濕法工藝稱為干法工藝。)

      1. 將待涂覆的樣品和薄膜的原材料(目標(biāo))放在附近。

      2. 整體處于真空狀態(tài),樣品與靶材之間施加電壓。

      3. 電子和離子高速運(yùn)動,離子與目標(biāo)碰撞。高速運(yùn)動的電子和離子與氣體分子碰撞,撞擊分子的電子并變成離子。

      4. 與目標(biāo)碰撞的離子會排斥目標(biāo)粒子。(濺射現(xiàn)象)

      5. 被排斥的原料顆粒碰撞并粘附在樣品上,形成薄膜。

      兼容Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金屬的高規(guī)格緊湊型鍍膜機(jī)。

      特征

      • DC 濺射類別中最小的超緊湊型號。

      • 配備皮拉尼真空計,確保成膜條件的再現(xiàn)性

      • 標(biāo)準(zhǔn)配備手動快門

      • 使用專用的樣品臺和載物臺可以輕松改變 TS 之間的距離。

      • 可以進(jìn)行鎢涂層,因此也可用于制備高分辨率 SEM 樣品。

      使用/成就示例

      • 將電極膜粘貼到各種設(shè)備上

      • 用于反射薄膜生產(chǎn)等。

      基本規(guī)格

      陰極φ2英寸直流磁控管/扁平電極
      適用對象Au/Pt/Au-Pd/Pt-Pd/Ag/Pd/W/Ni/Mo/Cr/Ti/Al
      壓力測量皮拉尼真空計
      壓力控制帶針閥手動控制
      入口直徑 φ6mm 一觸式接頭
      工藝氣體氬氣
      真空泵直聯(lián)旋轉(zhuǎn)泵:20L/min(帶自動泄漏)
      腔室尺寸內(nèi)徑φ90×D90mm(SUS材質(zhì))
      樣品交換方式前門開閉方式
      尺寸(寬/深/高)機(jī)身:160/450/290mm 轉(zhuǎn)速:295.5/156/199.5mm
      重量本體:9kg RP:9kg



    聯(lián)系方式
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