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離子濺射儀MSP-1S的鍍膜原理分析

  • 發(fā)布日期:2023-06-26      瀏覽次數:1027
    • 離子濺射儀MSP-1S的鍍膜原理分析

      離子濺射儀的鍍膜的主要方式有兩種:熱蒸發(fā)和離子濺射(包括直流濺射和磁控濺射)。

       熱蒸發(fā)是通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積到樣品表面并形成膜。

      image.png

      離子濺射是將靶材、樣品均置于真空室中;首先進行抽真空,實現輝光放電所需的低氣壓環(huán)境;靶材接高壓,為負極;樣品臺接地,為正極;靶材與樣品臺之間形成高壓電場,電離氣體;氣體電離后,正離子飛向負極,轟擊靶材,靶材原子被濺射飛出,沉積到樣品上形成導電膜。

      image.png


      MSP-1S

      該設備專用于貴金屬薄膜涂層,用于SEM觀察。 該裝置進行貴金屬涂層,以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。 除了使用磁控管靶電極進行低壓放電外,樣品臺是浮動的,減少了電子束流入造成的樣品損壞。 操作簡單,只需按一下按鈕,就沒有技巧。 它很小,不占用太多空間。 它在桌子的角落很有用。
      用途
      用于 SEM 樣品的金屬涂層設備。

      關于目標金屬

      當您下第一個訂單時,您將收到您選擇的一個貴金屬目標。
      請根據使用目的選擇。


      AU:黃金觀察區(qū)域:10,000~10,000倍 Au-PD:金鈀

      觀察區(qū)域:10,000~50,000倍
      非常適合
      低倍率觀察和良好的對比度。

      鉑:鉑金 觀察區(qū)域:50,000~100,000次 Pt-PD:鉑鈀

      觀察區(qū)域:30,000~50,000倍
      它具有細
      粒度,通常用于高倍率觀察。


    聯系方式
    • 電話

    • 傳真

    在線交流
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