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半導體和LCD行業(yè)用CMP漿液攪拌設(shè)備的特點

  • 發(fā)布日期:2023-05-05      瀏覽次數(shù):702
    • 半導體和LCD行業(yè)用CMP漿液攪拌設(shè)備的特點

      在攪拌CMP漿液時,我們希望消除由于空氣夾帶而導致的質(zhì)量變化。

      半導體工廠始終使用攪拌器來防止CMP漿液分離。 但是,當化學罐的液位變低時,攪拌器的轉(zhuǎn)速變得太強而無法攪拌液體,并且會發(fā)生空氣滯留,從而引起質(zhì)量變化引起的產(chǎn)品缺陷等問題。

      由于質(zhì)量和產(chǎn)品缺陷的變化,有相當大的損失,如果能夠預防,缺陷率可以大大提高。

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      TCMD型攪拌器,根據(jù)CMP漿液液的液位實現(xiàn)攪拌器的速度控制

      液體體積可以用液位計或稱重傳感器測量。
      轉(zhuǎn)速可通過液位計、稱重傳感器等的外部信號(4~20mA或1~5V)控制,防止質(zhì)量變化和化學品罐內(nèi)空氣滯留。

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