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光學(xué)元件拋光不均勻檢測(cè)用光源介紹

  • 發(fā)布日期:2022-05-09      瀏覽次數(shù):1138
    • 光學(xué)元件拋光不均勻檢測(cè)用光源介紹

      高亮度鹵素光源裝置是用于宏觀觀察的照明裝置,用于檢測(cè)終成品表面上的各種缺陷,如異物、劃痕、拋光不均勻、霧度、滑移等,是加工過程中勞動(dòng)強(qiáng)度的一種。半導(dǎo)體晶片和液晶基板的加工。

      概述

        1. 樣品表面可照射到 400,000 Lx 以上。

        2、由于采用鹵素?zé)糇鳛楣庠矗珳馗?,光照不均勻少,光?/span>
          非常穩(wěn)定銳利。

        3、采用冷鏡,熱量的影響極小
          ,僅為傳統(tǒng)鋁鏡的1/3。

        4. 兩段式切換機(jī)構(gòu),一
          鍵切換強(qiáng)光觀察和弱光觀察。
          YP-150I ? ? ? 照度范圍 φ30
          YP-250I ? ? ? 照度范圍 φ60
         ?。╕P-250I 可以從螺旋槳風(fēng)扇型和管道風(fēng)扇型中選擇。)



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