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日本shinkuu臺(tái)式真空蒸鍍裝置VE-2013介紹

  • 發(fā)布日期:2022-03-29      瀏覽次數(shù):1294
    • 日本shinkuu臺(tái)式真空蒸鍍裝置VE-2013介紹

       

      VE-2013是繼承了VE-2030(本公司生產(chǎn))概念的簡(jiǎn)易真空蒸鍍裝置。帶有內(nèi)置 TMP 的緊湊型外殼。由于是臺(tái)式機(jī),所以不占空間。RP 放在地板上。
      我們提供具有小型 TMP + RP 排氣系統(tǒng)且價(jià)格低廉的清潔、高真空氣相沉積設(shè)備。它是一種全自動(dòng)控制,消除了復(fù)雜的排氣操作,只需打開(kāi)/關(guān)閉觸摸面板開(kāi)關(guān)。
      金、鋁、鉻、銀等可以使用鎢籃進(jìn)行沉積。碳?xì)庀喑练e使用使用碳 SLC-30 )蒸發(fā)的夾式氣相沉積槍類(lèi)型。(不能使用Φ5mm碳棒。)

       

      碳蒸鍍電極

      碳蒸鍍電極。
      它可以在高真空區(qū)域進(jìn)行碳?xì)庀喑练e,并且可以形成具有優(yōu)異膜質(zhì)量和強(qiáng)度的碳膜。
      附帶的防污罩可限度地減少碳蒸氣沉積的散射范圍,并減輕清潔負(fù)擔(dān)。
      碳(SLC-30)用作碳?xì)庀喑练e源。

      金屬蒸鍍電極

      φ0.5mm 這是鎢籃的金屬蒸鍍電極。
      可以輕松輕松地沉積金、鋁、鉻等。附帶的防污罩可限度地減少氣相沉積范圍并減輕清潔負(fù)擔(dān)。

       

        
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