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光學(xué)薄膜的特點(diǎn)及測(cè)厚檢測(cè)設(shè)備介紹

  • 發(fā)布日期:2022-03-25      瀏覽次數(shù):1717
    • 光學(xué)薄膜的特點(diǎn)及測(cè)厚檢測(cè)設(shè)備介紹

      由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的,通過(guò)界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料。光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代?,F(xiàn)代,光學(xué)薄膜已廣泛用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學(xué)儀器。

      光學(xué)薄膜的特點(diǎn)是:表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì),也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因?yàn)椋褐苽鋾r(shí),薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料,其表面和界面是粗糙的,從而導(dǎo)致光束的漫散射;膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面;由于膜層的生長(zhǎng)、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因,形成了薄膜的各向異性;膜層具有復(fù)雜的時(shí)間效應(yīng)。

      測(cè)量方法非接觸式/光譜干涉儀
      測(cè)量對(duì)象電子、光學(xué)用透明平滑薄膜、多層薄膜
      測(cè)量原理光譜干涉儀

      產(chǎn)品特點(diǎn)
      • 實(shí)現(xiàn)高測(cè)量重復(fù)性(± 0.01 μm 或更小,取決于對(duì)象和測(cè)量條件)

      • 不易受溫度變化的影響

      • 可以制造用于研究和檢查的離線型和制造過(guò)程中使用的在線型。

      • 反射型允許從薄膜的一側(cè)測(cè)量

      • 只能測(cè)量透明涂膜層(取決于測(cè)量條件)

      產(chǎn)品規(guī)格
      測(cè)量厚度1 至 50 μm(用于薄材料)、10 至 150 μm(用于厚材料)    
      測(cè)量長(zhǎng)度50-5000 毫米
      測(cè)量間距1 毫米 ~
      小顯示值0.001 微米
      電源電壓AC100 伏 50/60 赫茲
      工作溫度限制5~45℃(測(cè)量時(shí)溫度變化在1℃以內(nèi))
      濕度35-80%(無(wú)冷凝)
      測(cè)量區(qū)域φ0.6毫米
      測(cè)量間隙約 30 毫米


    聯(lián)系方式
    • 電話

    • 傳真

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